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研究環境(Facilities)
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高規格クリーンルーム | 高精度電子ビーム描画装置 | 集束イオンビーム加工観察装置 |
(クラス10, 100, 1000) | EB Lithography System | Focused Ion Beam (FIB) System |
High-standard Clean Room | ||
(Class 10, 100, 1000) |
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EDX付き走査型電子顕微鏡 | フォトマスクアライナー | 原子間力顕微鏡 |
Scanning Electron Microscope | Photomask Aligner | Atomic Force Microscope (AFM) |
with EDX option |
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ロードロック式3元スパッタ装置s | デジタル顕微鏡 | ダイシングソー |
Sputtering Apparatus | Digital Microscope | Dicing Saw |