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研究環境(Facilities)

Rm. 306 (Office)    

 
   


Rm. 316 (Lab)

   
   

Common Infrastructure (N2RC)

     
高規格クリーンルーム   高精度電子ビーム描画装置 集束イオンビーム加工観察装置
 (クラス10, 100, 1000)  EB Lithography System  Focused Ion Beam (FIB) System
 High-standard Clean Room    
 (Class 10, 100, 1000)    
        
   
EDX付き走査型電子顕微鏡 フォトマスクアライナー  原子間力顕微鏡
 Scanning Electron Microscope  Photomask Aligner  Atomic Force Microscope (AFM)
 with EDX option    
        
 
  ロードロック式3元スパッタ装置s  デジタル顕微鏡 ダイシングソー
 Sputtering Apparatus  Digital Microscope  Dicing Saw
 

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